| 发明名称 | 在衬底沉积装置中使用高频扼流器的装置和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种衬底沉积装置。按照某些方面，该装置包括连接到气体源的气体管、射频功率源和衬底处理室。气体管适于将工艺气体和清洗等离子体从气体源/远程等离子体气体源运送到衬底处理室并且射频功率源适于将射频功率耦合施加到衬底处理室。而且，射频扼流器连接到射频功率源和气体源，其中射频扼流器适于衰减射频功率源和气体源之间的电压差以防止在衬底处理期间在气体管中形成等离子体。本发明还提供了许多其它方面。 | ||
| 申请公布号 | CN1932077A | 申请公布日期 | 2007.03.21 |
| 申请号 | CN200610126935.X | 申请日期 | 2006.09.06 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 卡尔·A·索伦森 |
| 分类号 | C23C16/52(2006.01);C23C16/513(2006.01);C23F4/00(2006.01) | 主分类号 | C23C16/52(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1、一种衬底沉积装置，包括：连接到气体源的气体管、射频功率源和衬底处理室，其中所述气体管适于将来自气体源的气体传送到衬底处理室，和所述射频功率源适于将射频功率耦合到衬底处理室；以及连接到射频功率源和气体源的射频扼流器，其中该射频扼流器适于衰减射频功率源和气体源之间的电压差。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||