发明名称 |
封装微机械结构的装置及其制造方法 |
摘要 |
一光阻材质结构(34),其并不需要牺牲层或晶圆接合程序即可加以产生,且被分别应用于必需的壳装、以及围绕在一基板(10),例如,一晶圆,上的该微机械结构(14)的一空穴(38),进以藉由,举例而言,一铸模以及铸造程序,而将其在之后处理中封装于一壳装中。在此,考虑之处在于,因为在使用一负光阻的例子中,该未交联的光阻,以及在一正光阻的例子中,该被漂白的光阻,乃必须在该显影步骤期间,自代表该空穴内部的区域处被移除,因此,不可能以选择性地单独蚀刻来产生一封闭的空穴,以及,考虑之处也在于,其有可能简单地将在稍后之显影步骤中所需要的此开口(44)进行封闭,以获得一封闭的空穴(38)。 |
申请公布号 |
CN1305752C |
申请公布日期 |
2007.03.21 |
申请号 |
CN200410095680.6 |
申请日期 |
2004.11.17 |
申请人 |
因芬尼昂技术股份公司 |
发明人 |
M·弗拉诺斯奇;A·梅科斯;W·内斯勒;K·-G·奥佩曼恩 |
分类号 |
B81B7/00(2006.01);B81C1/00(2006.01);H01L23/02(2006.01);H03H9/10(2006.01) |
主分类号 |
B81B7/00(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
杨松龄 |
主权项 |
1.一种产生一用于封装一微机械结构的装置的方法,其包括下列步骤:a)提供具有一主要侧(12)的一基板(10),而该微机械结构(14)形成于该主要侧(12)上;b)于该基板(10)的该主要侧(12)上沉积光阻材质;c)照射该光阻材质,其中该光阻材质为一负光阻,且于步骤c)中的该照射会在围绕该微机械结构(18)所在的一第二区域(28)的一第一区域(22)中进行,以及该负光阻会跨越该光阻材质的一完整厚度地进行交联,直至该基板(10)的该主要侧(12);反之,在该第二区域(28)中,除了该第二区域(28)的一部分(30)外,该负光阻仅会自该负光阻远离该基板(10)的该主要侧(12)的一侧起,交联一预先决定的深度,同时,在该预先决定深度下方的该负光阻不进行交联;以及在该第二区域(28)的该部分(30)中的该负光阻并不进行交联,以自该光阻材质获得一光阻材质结构(34;134),其中,该光阻材质结构围绕该微机械结构(14),以与该基板(10)形成一空穴区域(38),其位在该基板(10)与该光阻材质结构(34;134)之间,以及其中该空穴则是会将该微机械结构(14)以及该光阻材质结构(34;134)彼此分开,并具有一开口(44),且在其中不具有该光阻材质的交联负光阻;d)接续地显影该光阻材质,以经由该开口(44)而移除位在该空穴区域中的该光阻材质的该负光阻,进而自该空穴区域产生一空穴(38);以及e)封闭该开口(44),以将该空穴(38)关闭。 |
地址 |
联邦德国慕尼黑 |