发明名称 |
激光模块中使用的半导体激光装置 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体激光装置、模块及方法,用于提供适于为喇曼放大器提供泵浦光源的光线。该半导体激光装置包括一被构造来发射光线的有源层、一与该有源层接触的间隔层,以及一成形在该间隔层内、并被构造来发射具有多个纵向模式的光束的衍射光栅,这些纵向模式位于该半导体装置的振荡谱的预定谱宽度内。通过改变该纵向模式之间的波长间隔和/或拓宽振荡波长谱的预定谱宽度,在振荡波长谱的预定谱宽度内提供了多个纵向模式。波长间隔通过该半导体激光装置中谐振腔的长度进行设定,同时,通过缩短衍射光栅或者在衍射光栅内改变光栅元件的间距来对振荡波长谱的预定谱宽度进行设定。 |
申请公布号 |
CN1306668C |
申请公布日期 |
2007.03.21 |
申请号 |
CN02116190.9 |
申请日期 |
2002.04.23 |
申请人 |
古河电气工业株式会社 |
发明人 |
筑地直树;吉田顺自;舟桥政树 |
分类号 |
H01S5/125(2006.01);H01S3/067(2006.01) |
主分类号 |
H01S5/125(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯宇 |
主权项 |
1.一种半导体装置,包括有:一个被构造来发射光线的有源层;一个衍射光栅;一个反射涂层,该反射涂层位于所述有源层的第一端部处,并且大体与该有源层垂直;以及一个抗反射涂层,该抗反射涂层位于所述有源层的与所述第一端部相对的第二端部处,并且大体与所述有源层垂直,其中,所述反射涂层和所述抗反射涂层在所述有源区内限定出了一个谐振腔,并且,所述谐振腔的长度不小于800μm且不大于3200μm,使得所述半导体装置发射的光束在该半导体装置的振荡波长谱的预定谱宽度之内具有多个纵向模式。 |
地址 |
日本东京都 |