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发明名称
PRODUCTION METHOD FOR SILICON EPITAXIAL WAFER, AND SILICON EPITAXIAL WAFER
摘要
申请公布号
EP1670044(A4)
申请公布日期
2007.03.21
申请号
EP20040788176
申请日期
2004.09.27
申请人
SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD
发明人
KANAYA, KOICHI;NISHIZAWA, TSUYOSHI
分类号
H01L21/205;C23C16/46;C30B25/02;C30B25/12;C30B29/06
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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