| 发明名称 | 薄膜磁头的静止姿态角修正方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种仅通过对挠性体赋予较小的弯曲位移就能够自动地执行确保较大的静止姿态角的变化量的操作的磁头的静止姿态角修正方法及装置。将与薄膜磁头(2)的静止姿态角的值对应的修正条件赋予等级、预先存储在计算机系统(94)的存储部(942)中。通过测量装置(93)测量薄膜磁头(2)的静止姿态角。将该测量值供给到计算机系统(94)，根据对应于测量值的修正条件，通过修正装置(92)对挠性体(12)施加用来进行静止姿态角修正的弯曲。接着，对挠性体(12)的产生弯曲的区域照射激光。 | ||
| 申请公布号 | CN1933006A | 申请公布日期 | 2007.03.21 |
| 申请号 | CN200610153487.2 | 申请日期 | 2006.09.15 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 进藤修;水野亨;鸟居孝男 |
| 分类号 | G11B21/16(2006.01);G11B21/24(2006.01);G11B5/56(2006.01) | 主分类号 | G11B21/16(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 黄剑锋 |
| 主权项 | 1、一种静止姿态角修正方法，修正安装在头臂组装体的挠性体上的薄膜磁头的静止姿态角，其特征在于，包括以下的步骤：将与上述薄膜磁头的静止姿态角的值对应的修正条件赋予等级来预先存储；测量上述薄膜磁头的静止姿态角；根据对应于该测量值的上述修正条件，对上述挠性体施加用于静止姿态角修正的弯曲；对上述挠性体的产生弯曲的区域照射激光。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||