| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的基板处理装置设置有从设置在供给处理气体的气体供给系统的处理室(11)的入口附近的开关阀(13d、14d)的上游侧分支，并连接到排气管(17)的分支配管(18)。在该分支配管(18)上插入气体流量检测机构(19)，并设置用于将流路切换到处理室(11)侧和分支配管(18)的开关阀(13h、14h)。气体流路检测机构(19)使气体在电阻体中流通并测量其两端的压力来从压力差中检测出气体流量。通过该检测值，检测或校正质量流量控制器(13a、14a)。 | ||
| 申请公布号 | CN1933901A | 申请公布日期 | 2007.03.21 |
| 申请号 | CN200580009276.5 | 申请日期 | 2005.06.17 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 守谷修司;冈部庸之 |
| 分类号 | B01J4/00(2006.01);G05D7/06(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | B01J4/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：处理室，容纳被处理基板；气体供给系统，用于将来自气体供给源的气体通过气体流量控制机构控制为规定流量，并供给到所述处理室，对所述被处理基板实施规定的处理；分支配管，从所述气体供给系统的所述气体流量控制机构的下游侧分支；阀机构，用于将所述气体的流路切换到所述处理室侧和所述分支配管侧；和气体流量检测机构，具有插入所述分支配管，并测量电阻体和该电阻体两端的气压的压力测量机构，通过所述阀机构将所述气体的流路切换到所述分支配管侧，使通过所述气体流量控制机构进行流量控制的所述气体在所述气体流量检测机构中流通，并根据通过所述压力测量机构测定的气压差进行所述气体流量控制机构的检测或校正。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||