发明名称 ETCH AND DEPOSITION CONTROL FOR PLASMA IMPLANTATION
摘要
申请公布号 KR20070032342(A) 申请公布日期 2007.03.21
申请号 KR20077001503 申请日期 2007.01.22
申请人 发明人
分类号 H01L21/265;C03C15/00;C23C14/00;H01J37/30 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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