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经营范围
发明名称
ETCH AND DEPOSITION CONTROL FOR PLASMA IMPLANTATION
摘要
申请公布号
KR20070032342(A)
申请公布日期
2007.03.21
申请号
KR20077001503
申请日期
2007.01.22
申请人
发明人
分类号
H01L21/265;C03C15/00;C23C14/00;H01J37/30
主分类号
H01L21/265
代理机构
代理人
主权项
地址
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