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发明名称 PLASMA ETCHING APPARATUS AND PLASMA ETCHING METHOD
摘要
申请公布号 KR20070031778(A) 申请公布日期 2007.03.20
申请号 KR20060017133 申请日期 2006.02.22
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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