发明名称 | 形貌测量方法及其测量装置 | ||
摘要 | 一种形貌测量方法(surface profile measuring method),系以一宽频光源经分光镜分束后,分别照射待测物体表面与一参考面,由两个表面之反射光产生干涉,以一固定步幅,改变物体表面与分光镜之距离,产生一高度值对应于光强度之干涉图谱。接下来,扫描此干涉图谱,找出对应于最大光强度之第一干涉条纹。然后,于第一干涉条纹及其附近之干涉条纹中,使用干涉图谱对称性原则,找出对称性最佳之一第二干涉条纹。随后,在此第二干涉条纹上,利用相位补偿法,计算出第二干涉条纹之波峰所对应之零光程差处,即为待测物体表面之高度值。 | ||
申请公布号 | TW200710371 | 申请公布日期 | 2007.03.16 |
申请号 | TW094131223 | 申请日期 | 2005.09.09 |
申请人 | 致茂电子股份有限公司 | 发明人 | 张宏彰;林耀明 |
分类号 | G01B9/023(2006.01) | 主分类号 | G01B9/023(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 李长铭;庄世超 | |
主权项 | |||
地址 | 台北县五股乡五股工业区五权路43号 |