电浆处理方法

摘要

本发明系提供一种电浆处理方法，系利用电浆使矽直接氮化，可形成良质的氮化膜之技术。该电浆处理方法，系在电浆处理装置的处理室内，使含氮电浆作用于被处理体表面的矽而直接氮化处理，形成氮化矽膜，其特征为包含有：藉由前述含氮电浆中的自由基成分引起氮化反应成为支配条件，进行电浆处理的第1步骤；及藉由前述含氮电浆中的离子成分引起氮化反应成为支配条件，进行电浆处理的第2步骤。