基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明系关于一种基板处理装置，其在一局部形成于一腔室内之化学溶液处理室中进行一化学溶液处理。在该化学溶液处理期间，该基板处理装置密封该化学溶液处理室，且量测化学溶液处理室内之压力，且基于一量测值控制化学溶液处理室内之压力。在无关于该基板处理装置之所在环境下，可将化学溶液处理室控制至一预定压力。该基板处理装置亦允许对于区域之最小所需量之有效压力控制。