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经营范围
发明名称
用于基材处理腔室之构件的局部表面退火
摘要
一种基材处理腔室构件具有一结构性本体,该结构性本体具有局部表面区域,该些局部表面区域具有经退火之微裂缝。该些经退火之微裂缝可以减少裂缝成长与增加碎裂阻抗性。在一制造方法中,该构件之结构性本体是藉由传统方式来形成,且一雷射束被导引至该本体之局部表面区域上而持续足够时间以退火该些表面微裂缝。
申请公布号
TW200710998
申请公布日期
2007.03.16
申请号
TW095125734
申请日期
2006.07.13
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
巴特那格亚旭斯;缪路盖许拉斯曼;葛帕拉克里斯南帕德马
分类号
H01L21/324(2006.01)
主分类号
H01L21/324(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
美国
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