形成高解析度图案之方法及具该方法形成图案之基板

摘要

一种形成图案之方法，包括：(a)提供一具有一牺牲层之基材(b)利用一第一手段形成复数个图案沟槽于牺牲层上，图案沟槽不含第一材料，且线宽为第一解析度或小于第一解析度；(c)利用一第二手段将一第二材料填入图案沟槽中；以及(d)利用照射或加热方式来移除残留在牺牲层中的第一材料，其中第一材料的临界通量小于第二材料的临界通量，步骤(d)中移除第一材料的剂量是介于第一材料的临界通量与第二材料的临界通量之间，且图案系利用第二材料而形成于基材上。此外，亦提供一种以本发明揭示之方法形成图案之基材。