| 摘要 |
本发明提供一种，能以高精确度且稳定的转印微细之图型的相位移光罩基板。其系在相对于曝光光线的透明基板1上，设置由2层的金属矽化物化合物(2a，2b)所成之膜层合的相位移多层膜2。又，在表面侧之金属矽化物化合物(2b)的表面形成氧化稳定化层(2c)。相位移多层膜2之中的基板1侧(下侧)之层2a为相对的金属浓厚组成之金属矽化物化合物；上侧之层2b为金属组成相对低的金属矽化物化合物。氧化稳定化层2c之金属含量，为下侧之层2a的金属含量之1/3(莫耳比)以下的低金属组成，显示化学稳定性优越之高药品耐性。下侧之层2a，为由具有较高之金属含量的金属矽化物化合物膜所成之故，容易控制相位移多层膜之光学特性，能获得所期望的光学特性。 |
