| 发明名称 |
雷射照射方法及雷射照射装置以及半导体装置之制造方法 |
| 摘要 |
本发明之特征在于藉由系倾斜入射到凸透镜的雷射光束，出现诸如像散等的像差，并且雷射光束的形状在照射表面或其周围区域内形成线形。因为本发明具有非常简单的结构，光线调整较容易，并且装置尺寸变小。此外，由于光束相对于被照体为倾斜入射的，可防止返回光束。 |
| 申请公布号 |
TW200710999 |
申请公布日期 |
2007.03.16 |
| 申请号 |
TW095137150 |
申请日期 |
2002.09.24 |
| 申请人 |
半导体能源研究所股份有限公司 |
发明人 |
田中幸一郎;宫入秀和;志贺爱子;下村明久;矶部敦生 |
| 分类号 |
H01L21/324(2006.01);H01L21/312(2006.01);G02B26/10(2006.01);G02F1/13(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/324(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
