可穿透式研磨垫

摘要

本发明系关于一种在CMP制程中使用研磨组成物来平坦化基板所用的研磨垫。该研磨垫系可穿透(transparent)者且可允许原位(in situ)光学终点侦测装置的使用而不需要研磨垫中各别的小孔或窗口。