发明名称 溅镀装置、透明导电膜之制造方法
摘要 形成一种电阻值小,透过率高,对下层之有机EL膜不造成伤害之透明导电膜。在平行隔开有间隔而配置之第1、第2的标靶21a、21b之间隙,与成膜对象物5之搬送路径14之间设置遮蔽板31,使通过形成于遮蔽板31之放出孔32的溅镀粒子到达成膜对象物5。倾斜射入之溅镀粒子系被遮蔽板31所遮蔽,而形成低电阻,高透过率之透明导电膜。
申请公布号 TW200710247 申请公布日期 2007.03.16
申请号 TW095126254 申请日期 2006.07.18
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 浮岛祯之;高泽悟;竹井日出夫;石桥晓
分类号 C23C14/34(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/56(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本