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经营范围
发明名称
溅镀装置、透明导电膜之制造方法
摘要
形成一种电阻值小,透过率高,对下层之有机EL膜不造成伤害之透明导电膜。在平行隔开有间隔而配置之第1、第2的标靶21a、21b之间隙,与成膜对象物5之搬送路径14之间设置遮蔽板31,使通过形成于遮蔽板31之放出孔32的溅镀粒子到达成膜对象物5。倾斜射入之溅镀粒子系被遮蔽板31所遮蔽,而形成低电阻,高透过率之透明导电膜。
申请公布号
TW200710247
申请公布日期
2007.03.16
申请号
TW095126254
申请日期
2006.07.18
申请人
爱发科股份有限公司
发明人
浮岛祯之;高泽悟;竹井日出夫;石桥晓
分类号
C23C14/34(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/56(2006.01)
主分类号
C23C14/34(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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