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发明名称
制造覆晶于半导体元件封装之晶圆级无凸块式方法
摘要
本发明揭露一种制造覆晶于半导体元件封装之晶圆级无凸块式方法,其系包含下列步骤:将半导体晶粒的正面进行防焊漆涂布,并利用防焊漆涂布以提供复数个闸极接触窗与复数个源极接触窗,再藉由凹涡的标地区域以对导线架进行图案化,依据闸极接触窗与源极接触窗的位置,以在导线架的相对位置上制造出凹涡,再将导电性的环氧树脂印刷在导线架上的凹涡中,再把导线架与半导体矽晶圆晶粒一同进行烘烤固化,并且将矽晶片切割成块状以形成半导体元件封装结构。
申请公布号
TW200711014
申请公布日期
2007.03.16
申请号
TW095120524
申请日期
2006.06.09
申请人
万里达半导体有限公司
发明人
孙明;龚德梅
分类号
H01L21/60(2006.01);H01L21/50(2006.01)
主分类号
H01L21/60(2006.01)
代理机构
代理人
林火泉
主权项
地址
英属百慕达
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