发明名称 制造覆晶于半导体元件封装之晶圆级无凸块式方法
摘要 本发明揭露一种制造覆晶于半导体元件封装之晶圆级无凸块式方法,其系包含下列步骤:将半导体晶粒的正面进行防焊漆涂布,并利用防焊漆涂布以提供复数个闸极接触窗与复数个源极接触窗,再藉由凹涡的标地区域以对导线架进行图案化,依据闸极接触窗与源极接触窗的位置,以在导线架的相对位置上制造出凹涡,再将导电性的环氧树脂印刷在导线架上的凹涡中,再把导线架与半导体矽晶圆晶粒一同进行烘烤固化,并且将矽晶片切割成块状以形成半导体元件封装结构。
申请公布号 TW200711014 申请公布日期 2007.03.16
申请号 TW095120524 申请日期 2006.06.09
申请人 万里达半导体有限公司 发明人 孙明;龚德梅
分类号 H01L21/60(2006.01);H01L21/50(2006.01) 主分类号 H01L21/60(2006.01)
代理机构 代理人 林火泉
主权项
地址 英属百慕达