差别交替式相转移罩幕之最佳化

摘要

本发明提供一种设计在微影制程中用以投影积体电路设计图像之罩幕的方法，其中此积体电路布局具有复数个关键宽度部分。此方法包含藉由将用以辅助投影关键宽度之罩幕特征与积体电路设计之关键宽度部分对准而产生第一罩幕设计，以使第一罩幕设计在符合预定之制造能力设计准则；以及藉由将罩幕特征与积体电路设计之关键宽度部分对准而产生第二罩幕设计，使得第二罩幕设计在靠近关键宽度部分区域符合预定之微影设计准则。此方法另包含找出违反预定之制造能力设计准则之第二罩幕设计的设计特征；以及产生由第二罩幕设计衍生之第三罩幕设计，其中违反预定之制造能力设计准则的第二罩幕设计之罩幕特征系被选择性地以来自第一罩幕设计之罩幕特征取代，使得第三罩幕设计符合预定之制造能力设计准则。实例中，用于辅助投影关键宽度部分之罩幕特征可包含交替相位移区域或次解析度辅助特征。