发明名称 |
人造阻抗结构(一) ARTIFICIAL IMPEDANCE STRUCTURE |
摘要 |
一种人造阻抗结构与一种用于制造相同人造阻抗结构的方法。该结构包含一个一般具有相反的第一与第二表面的介质层,一被置于该第一表面上的导电层,以及多数个被被置于该第二表面上的导电结构,以提供一预先选定且沿着该第二表面的阻抗分布。 |
申请公布号 |
TW200711221 |
申请公布日期 |
2007.03.16 |
申请号 |
TW095123302 |
申请日期 |
2006.06.28 |
申请人 |
HRL实验有限公司 |
发明人 |
席文皮派;柯布恩;冯贺霖;冈兹;吉伍利;莱西;欧杜斯 约翰;维瑟 |
分类号 |
H01Q1/36(2006.01);H01Q1/48(2006.01) |
主分类号 |
H01Q1/36(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
主权项 |
|
地址 |
美国 |