发明名称 人造阻抗结构(一) ARTIFICIAL IMPEDANCE STRUCTURE
摘要 一种人造阻抗结构与一种用于制造相同人造阻抗结构的方法。该结构包含一个一般具有相反的第一与第二表面的介质层,一被置于该第一表面上的导电层,以及多数个被被置于该第二表面上的导电结构,以提供一预先选定且沿着该第二表面的阻抗分布。
申请公布号 TW200711221 申请公布日期 2007.03.16
申请号 TW095123302 申请日期 2006.06.28
申请人 HRL实验有限公司 发明人 席文皮派;柯布恩;冯贺霖;冈兹;吉伍利;莱西;欧杜斯 约翰;维瑟
分类号 H01Q1/36(2006.01);H01Q1/48(2006.01) 主分类号 H01Q1/36(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国