发明名称 |
Verwendung eines lösungsprozessierbaren Materials als aktive halbleitende Schicht in einem n-Typ-Transistor |
摘要 |
Die Erfindung bezieht sich auf n-Typ organische Feldeffekt-Transistoren. Dabei wurde das Material der Halbleiterschicht so gewählt, dass eine bessere Herstellungsweise, insbesondere durch Prozesse, die lösungsprozessierbare Halbleitermaterialien erfordern, und ein Transistor mit verbesserten Eigenschaften erhalten wurde.
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申请公布号 |
DE102005034414(A1) |
申请公布日期 |
2007.03.15 |
申请号 |
DE200510034414 |
申请日期 |
2005.07.22 |
申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
BRABEC, CHRISTOPH;WALDAUF, CHRISTOPH |
分类号 |
H01L51/30;H01L51/05;H01L51/40 |
主分类号 |
H01L51/30 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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