发明名称 Verwendung eines lösungsprozessierbaren Materials als aktive halbleitende Schicht in einem n-Typ-Transistor
摘要 Die Erfindung bezieht sich auf n-Typ organische Feldeffekt-Transistoren. Dabei wurde das Material der Halbleiterschicht so gewählt, dass eine bessere Herstellungsweise, insbesondere durch Prozesse, die lösungsprozessierbare Halbleitermaterialien erfordern, und ein Transistor mit verbesserten Eigenschaften erhalten wurde.
申请公布号 DE102005034414(A1) 申请公布日期 2007.03.15
申请号 DE200510034414 申请日期 2005.07.22
申请人 SIEMENS AG 发明人 BRABEC, CHRISTOPH;WALDAUF, CHRISTOPH
分类号 H01L51/30;H01L51/05;H01L51/40 主分类号 H01L51/30
代理机构 代理人
主权项
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