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发明名称 METHOD OF PROCESSING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR100696033(B1) 申请公布日期 2007.03.15
申请号 KR20000030343 申请日期 2000.06.02
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;H01L21/302;C23C16/32;C23C16/56;H01L21/3105;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/768 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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