发明名称 |
Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen als Stacked-Mehrfach-Gatter |
摘要 |
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申请公布号 |
DE10328072(B4) |
申请公布日期 |
2007.03.15 |
申请号 |
DE20031028072 |
申请日期 |
2003.06.23 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
LIPPMANN, BERNHARD;MIO, HANNES |
分类号 |
H01L21/8234;H01L27/06;H01L27/085;H01L27/118 |
主分类号 |
H01L21/8234 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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