摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung der Intensitätsverteilung in der Bildebene (6) einer Projekt ionsbelichtungsanlage, bei dem ein Abbildungssystem (7,8) mit hoher Apertur emuliert wird, wobei von einer Probe kommendes Licht mit einem Emulationsabbildungssystem auf einen ortsauflösenden Detektor abgebildet wird, sowie Anordnungen zur Durchführung dieses Verfahrens, ebenso wie die emulierten Anordnungen. Mit der Erfindung soll die Qualität der Abbildung insofern verbessert werden, als einer Apodisierung des Systems Rechnung getragen wird. Bei einem solchen Verfahren wird die komplexe Amplitudenverteilung in der Austrittpupille bestimmt, die Amplitudenverteilung mit einer vorgegebenen Apodisierungskorrektur verknüpft, und aus der geänderten Amplitudenverteilung ein Bild mit korrigierter Apodisierung berechnet .</p> |
申请人 |
CARL ZEISS SMS GMBH;GREIF-WUESTENBECKER, JOERN;BOEHME, BEATE;STROESSNER, ULRICH;TOTZECK, MICHAEL;KAMENOV, VALDIMIR;DITTMANN, OLAF;GRUNER, TORALF;KRAEHMER, DANIEL;GEH, BERND |
发明人 |
GREIF-WUESTENBECKER, JOERN;BOEHME, BEATE;STROESSNER, ULRICH;TOTZECK, MICHAEL;KAMENOV, VALDIMIR;DITTMANN, OLAF;GRUNER, TORALF;KRAEHMER, DANIEL;GEH, BERND |