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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von granulatförmigen polykristallinem Silicium, bei dem in einem Wirbelschichtreaktor mit einer heißen Oberfläche ein Reaktionsgas, enthaltend eine gasförmige Siliciumverbindung bei eienr Reaktionstemperatur von 600 bis 1100 DEG C als Siliciummetall auf Siliciumpartikeln, die mittels eines Fluidisierungsgases zu einer Wirbelschicht fluidisiert sind, abgeschieden wird und die mit dem abgelagerten Silicium versehenen Partikel sowie nicht reagiertes Reaktionsgas und Fluidisierungsgas aus dem Reaktor entfernt werden, dadurch gekennzeichnet, dass an der Oberfläche des Reaktors eine Gaszusammensetzung, enthaltend 99,5 bis 95 Mol.-% der gasförmigen Siliciumverbindung, vorliegt und die Oberfläche des Reaktors eine Temperatur von 700 bis 1400 DEG C aufweist und diese Temperatur der Temperatur der Siliciumpartikel entspricht oder höher liegt als die Temperatur der Siliciumpartikel.
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