发明名称 Ausrichtmarken für Lithografie mit polarisiertem Licht und Verfahren zur Verwendung derselben
摘要 Marke und Verfahren für integrierte Schaltungsfertigung mit polarisierter Lichtlithografie. Eine bevorzugte Ausführungsform umfasst eine erste Vielzahl von Elementen, beinhaltet von einem ersten Komponententyp, worin der erste Komponententyp eine erste Polarisation hat, und eine zweite Vielzahl von Elementen, beinhaltet von einem zweiten Komponententyp, worin der zweite Komponententyp eine zweite Polarisation hat, worin die erste Polarisation und die zweite Polarisation orthogonal sind, worin benachbarte Elemente von verschiedenen Komponententypen sind. Die Ausrichtmarken können verwendet werden in einem intensitätsbasierten oder einem diffraktionsbasierten Ausrichtungsprozess.
申请公布号 DE102006040275(A1) 申请公布日期 2007.03.15
申请号 DE20061040275 申请日期 2006.08.29
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 GUTMANN, ALOIS;MAROKKEY, SAJAN;SARMA, CHANDRASEKHAR
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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