发明名称 SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT AND METHOD FOR ETCHING A LAYER OF SAID SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT USING AN ETCHING MASK CONTAINING SILICON
摘要
申请公布号 EP1360711(B1) 申请公布日期 2007.03.14
申请号 EP20020700152 申请日期 2002.01.17
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 GOLDBACH, MATTHIAS
分类号 H01L21/302;H01L21/033;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/311 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
地址