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发明名称
SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT AND METHOD FOR ETCHING A LAYER OF SAID SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT USING AN ETCHING MASK CONTAINING SILICON
摘要
申请公布号
EP1360711(B1)
申请公布日期
2007.03.14
申请号
EP20020700152
申请日期
2002.01.17
申请人
INFINEON TECHNOLOGIES AG
发明人
GOLDBACH, MATTHIAS
分类号
H01L21/302;H01L21/033;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/311
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
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