| 发明名称 | MALDI试样板成像工作站 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种装置，用于产生离子源外部的离子源试样板的全局表面的图像。一般而言，该装置包含离子源试样板、成像器件(例如，CCD或CMOS照相机)和照射器件，照射器件被配置为产生光束，该光束照射试样板表面，从而限定了该光束和试样板表面之间的掠角。该装置可以位于远离离子源的位置。 | ||
| 申请公布号 | CN1928549A | 申请公布日期 | 2007.03.14 |
| 申请号 | CN200610154102.4 | 申请日期 | 2006.09.08 |
| 申请人 | 安捷伦科技有限公司 | 发明人 | 琼－鲁克·图克;格雷戈·T·欧瓦内;威廉·D·费希尔;理查德·P·特利亚 |
| 分类号 | G01N30/72(2006.01);H01J49/26(2006.01) | 主分类号 | G01N30/72(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 王怡 |
| 主权项 | 1.一种用于对离子源外部的离子源试样板的全局表面成像的装置，包括：离子源外部的离子源试样板；与所述试样板隔离开的成像器件，用于产生所述试样板的全局表面的图像；以及与所述试样板相邻近的用于照射所述表面的照射器件，所述照射器件用于产生光束，所述光束照射所述试样板表面以限定所述光束和所述试样板表面之间的掠角。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||