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发明名称 METHOD OF FORMING FREESTANDING SEMICONDUCTOR LAYER
摘要
申请公布号 EP1644968(A4) 申请公布日期 2007.03.14
申请号 EP20040777136 申请日期 2004.06.25
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 ANDERSON, BRENT, A.;NOWAK, EDWARD, J.;RAINEY, BETHANN
分类号 H01L21/336;H01L;H01L21/20;H01L21/324;H01L21/8238;H01L29/04;H01L29/786;H01L31/036 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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