| 发明名称 | 光学记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明的光学记录介质包括透明基底、记录层、光学反射层和保护层，其中上述后三层依次在基底上形成，并且能在记录线速度为27.9m/s或更高下进行记录。光学反射层的特征在于该层包括Ag和主要由Ag制成的合金中的任何一种，并且光学反射层的x－射线衍射光谱满足关系式0.2＜I(200)/I(111)＜0.4，其中I(111)是(111)面的x－射线衍射峰的强度，而I(200)是(200)面的x－射线衍射峰的强度，该强度是当相对于光学透明基底的表面的入射角为θ时通过基于θ－2θ方法的x－射线衍射测定的。 | ||
| 申请公布号 | CN1930622A | 申请公布日期 | 2007.03.14 |
| 申请号 | CN200580008136.6 | 申请日期 | 2005.03.14 |
| 申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 石见知三 |
| 分类号 | G11B7/24(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;杨梧 |
| 主权项 | 1.一种光学记录介质，包括：透明基底；具有主要成分为有机染料的记录层；光学反射层；和保护层，其中该记录层、该光学反射层、和该保护层依次在该基底上形成，可在记录线速度为27.9m/s下进行记录，其中该光学反射层包括Ag和主要由Ag制成的合金中的任何一种，并且该光学反射层的x-射线衍射光谱满足以下关系式：0.2＜I(200)/I(111)＜0.4其中I(111)是(111)面的x-射线衍射峰的强度，而I(200)是(200)面的x-射线衍射峰的强度，该强度是当相对于光学透明基底的表面的入射角为θ时通过基于θ-2θ方法的x-射线衍射测定的。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||