发明名称 | 接触式图象传感器及其制造方法 | ||
摘要 | 为了防止发生重影,提供一种具有便于进行受光元件阵列基板位置调整结构的接触式图象传感器。接触式图象传感器由下述构成:具有发光元件阵列的光源20、缝隙22、透镜24、安装了受光元件阵列25的受光元件阵列基板26、收容上述各部分的机壳28。在光源20的一端,为了供电设有4条导线30。受光元件阵列基板26的一端形成供导线30穿过的4个U字形凹槽32。该凹槽32的大小相对于导线30的粗度留有充分的余地。 | ||
申请公布号 | CN1929531A | 申请公布日期 | 2007.03.14 |
申请号 | CN200610129119.4 | 申请日期 | 2006.09.08 |
申请人 | 日本板硝子株式会社 | 发明人 | 齐藤富久;吉田治信;脇坂政英;北岡正树 |
分类号 | H04N1/028(2006.01) | 主分类号 | H04N1/028(2006.01) |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 杜日新 |
主权项 | 1、一种调整受光元件阵列基板位置的方法,用于在接触式图象传感器中,该接触式图象传感器包括:机壳;固定在前述机壳上,给原稿照射光的1个或两个光源;具有固定在前述机壳上,沿主扫描方向延伸的细长缝隙开口部,使前述原稿上反射的光通过的缝隙;固定在前述机壳上,使穿过前述缝隙的缝隙开口部的光透过后形成正立等倍像的,由多个平板形微型透镜阵列构成的透镜;支持在前述机壳内,可在垂直于前述主扫描方向的副扫描方向上调整位置的具有受光元件阵列的受光元件阵列基板,该方法其特征在于包括:(a)将亮度分布均匀的基准原稿承载到前述缝隙开口部上部的步骤;(b)利用前述光源对前述基准稿照射光的步骤;(c)用前述受光元件阵列接受穿过前述缝隙开口部的前述基准原稿上的反射光,检出光电变换后的传感器输出的步骤;(d)为使通过前述步骤(c)检出的传感器输出达到最大,在副扫描方向上调整前述受光元件阵列基板的位置的步骤。 | ||
地址 | 日本东京 |