| 发明名称 | 反应器的气体分布器 | ||
| 摘要 | 一种用于反应器(21)的分布系统(10)包括供应管阵列，用于通过置于分布器上方的分布系统将反应物供应到反应器底部的分布器。分布器的出口(12)通常朝向底部或者平行于底部，以便将气体或其它反应物喷射扫过底部。这减小了催化剂在反应器底部的沉降，改善了浆的混合，并减少了与失控反应相关的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN1929908A | 申请公布日期 | 2007.03.14 |
| 申请号 | CN200580007565.1 | 申请日期 | 2005.03.07 |
| 申请人 | 国际壳牌研究有限公司 | 发明人 | A·布尔;F·J·M·施劳温 |
| 分类号 | B01J8/22(2006.01) | 主分类号 | B01J8/22(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 董敏 |
| 主权项 | 1.一种用于反应器的分布系统，所述分布系统包括将气体输入反应器的气体出口，以及将气体供应到出口的气体分布系统，其特征在于将从气体出口喷出的气体供应到分布器的气体分布系统置于系统中分布器出口上方。 | ||
| 地址 | 荷兰海牙 | ||