摘要 |
<p>Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage enthält einen Lichtmischer (10; 210) zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen. Dieser kann z.B. mindestens eine ebene Strahlteilerschicht (16; 216a, 216b) umfassen, die zwischen zwei transparenten Teilelementen (12, 14) parallel zu einer optischen Achse (OA) der Beleuchtungseinrichtung (IS) angeordnet ist. Eine alternative Variante für einen Lichtmischer enthält mindestens eine Reihe (R1 bis R3; R1' bis R5') von Strahlteilern (ST11, ST12, ST13, ST21, ST22, ST23, ST31, ST32, ST33), wobei in der mindestens einen Reihe die Strahlteiler parallel zueinander, in einem Neigungswinkel zu einer eingangsseitigen optischen Achse (OA1) der Beleuchtungseinrichtung (IS) und in einer zu der eingangsseitigen optischen Achse (OA1) senkrechten Richtung versetzt hintereinander angeordnet sind.
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