| 发明名称 | 用于无定型碳膜的化学气相沉积的液体前驱体 | ||
| 摘要 | 本发明提供了用于沉积无定型碳材料的方法。在一个方面中，本发明提供一种处理衬底的方法，该方法包括：在处理室中放置所述衬底；将处理气体引入所述处理室，其中，所述处理气体包括载气、氢气和一种或多种烃化合物或其衍生物；通过从双频RF源施加功率产生所述处理气体的等离子体；以及在所述衬底上沉积无定型碳层。 | ||
| 申请公布号 | CN1930320A | 申请公布日期 | 2007.03.14 |
| 申请号 | CN200580006997.0 | 申请日期 | 2005.02.24 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 马丁·杰伊·瑟默恩斯;温迪·H·叶;苏达哈·S·R·拉蒂;迪奈什·帕德海;安迪(信朝)·路安;萨姆－叶·贝蒂·唐;普里亚·库尔卡尼;维斯瓦思瓦伦·西瓦诺马克斯南;金博宏;海澈姆·穆萨德;玉香·梅·王;迈克尔·丘·宽 |
| 分类号 | C23C16/26(2006.01);C23C16/505(2006.01) | 主分类号 | C23C16/26(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵飞 |
| 主权项 | 1.一种在处理室中处理衬底的方法，包括：在处理室中放置所述衬底；将处理气体引入所述处理室，其中，所述处理气体包括氢气和一种或多种具有通式CAHBOCFD的前驱体化合物，其中A的范围为1～24，B的范围为0～50，C的范围为0～10，D的范围为0～50，并且B和D的和至少为2；通过从双频RF源施加功率产生所述处理气体的等离子体；以及在所述衬底上沉积无定型碳层。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||