| 主权项 |
1.一种微影装置(1),其包括: - 至少一适用于夹持一物件(W;MA;5)在其上之支撑结 构(MT;WT),该支撑结构(MT;WT)与夹在该支撑结构(MT;WT) 上之该物件(W;MA;5)界定一隔室,及 - 与该隔室连接之供应构件(11),该供应构件(11)被 建造与配置,以供应流体给该隔室, 其中该供应构件(11)包括一计量器(15),其系配置以 测量于一时间函数内,该流体之流速与该流体之压 力至少之一之变化,以侦测该物件(W;MA;5)是否正确 夹在该支撑结构上(MT;WT)。 2.如申请专利范围第1项之装置(1),其中该计量器(15 )是一流速表,其连接一控制单元,该控制单元系配 置以接收代表该流体之流速値,而且配置以判断该 流体之流速于一时间函数内之变化,并将该变化与 该变化之预定値相比较。 3.如申请专利范围第1项之装置(1),其中该计量器(15 )是一压力表,其连接一控制单元,该控制单元系配 置以接收代表该流体之压力値,而且配置以判断该 流体之流速于一时间函数内之变化,并将该变化与 该变化之预定値相比较。 4.如申请专利范围第1、2或3项之装置(1),其中至少 一支撑结构包括: - 一第一支撑结构(MT),其系用于支撑图样化构件(MA ),该图样化构件(MA)适合根据所希望之图样,图样化 该投射光(PB), - 一第二支撑结构(WT),其系用于支撑一基板(W;5),而 且其中该装置(1)进一步包括: - 一辐射系统,其系用于提供一辐射投射光(PB),及 - 一投射系统(PL),其系用于投射该图样化光束在该 基板(W;5)之一目标部分,而且其中 至少该图样化构件(MA)或该基板(W;5)之一分别被夹 在该第一支撑结构(MT)或该第二支撑结构(WT)。 5.如申请专利范围第1,2或3项之装置(1),其中该流体 是包括氩之气体。 6.如申请专利范围第1,2或3项之装置(1),其中该支撑 结构(11)适用于在一预定时间内,将该隔室之压力 从一第一位准增加至一第二位准,而且随后将该压 力从该第二位准降低至一第三位准。 7.如申请专利范围第6项之装置(1),其中该压力位准 之范围是8mBar至12mBar,最好是10mBar。 8.如申请专利范围第6项之装置(1),其中该时间期间 之范围是1s至30s。 9.一种侦测正确夹持物件(W;MA;5)在一支撑结构(MT;WT )之方法,其中支撑结构(MT;WT)与夹在该支撑结构(MT; WT)之物件(W;MA;5)界定一隔室,该方法包括: - 供应一流体,尤其是一种气体给该隔室; - 测量该流体之流速与该流体之压力至少之一于 一时间函数内之变化。 10.一种机器可读取记录媒体,其上储存了可由一如 申请专利范围第1、2或3项之微影装置(1)之控制单 元载入之电脑程式,该电脑程式包括指令与资料, 以使该控制单元执行如申请专利范围第9项之方法 。 11.一种用于一微影装置之支撑结构,该支撑结构适 用于夹持一物件,该支撑结构与夹在该支撑结构上 之该物件界定一隔室,该支撑结构进一步提供与该 隔室连通之一供应构件,该供应构件被建造与配置 以供应流体给该隔室,其中该供应构件包括一计量 器,其系配置以测量该流体之流速与该流体之压力 其中至少之一之变化成为一时间函数,以侦测该物 件是否正确夹在该支撑结构上。 图式简单说明: 图1是一微影投射装置之一般概要图; 图2显示本发明之一实施例之概要结构; 图3是该供应系统之气体之流速与时间之对照图; 图4是该供应系统之压力与时间之对照图;及 图5说明压力之暂时增加量被用于测试该夹持之影 响。 |
