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1.一种瓦斯炉结构,其包含: 一进气单元,其系设有一环开口及一槽道,该环开 口系形成于该槽道上方,且该进气单元连通一进气 管,以供导入一瓦斯气体;及 一调节盖,其系对应盖设于该进气单元之环开口上 方,且该调节盖系倾斜开设数个斜向喷嘴,该斜向 喷嘴系导引该瓦斯气体斜向喷出。 2.依申请专利范围第1项所述之瓦斯炉结构,其中该 调节盖另设有数个轴向喷嘴,该斜向喷嘴相对于该 轴向喷嘴形成一夹角。 3.依申请专利范围第1项所述之瓦斯炉结构,其中另 设有一底座,该底座系供承载该进气单元,且该底 座于底面设有数个支撑脚,该支撑脚系向下对应凸 设于该底座之底面唇缘,以支撑该底座。 4.依申请专利范围第1项所述之瓦斯炉结构,其中该 进气单元底面系轴向向上延伸形成一支撑柱体,该 支撑柱体系选自一中空圆柱体。 5.依申请专利范围第4项所述之瓦斯炉结构,其中该 进气单元及支撑柱体之上端缘系分别弯折形成一 内径向凸缘及一外径向凸缘,且该进气单元及支撑 柱体亦垂直该内径向凸缘及外径向凸缘分别向上 延伸形成一内轴向凸缘及一外轴向凸缘。 6.依申请专利范围第2项所述之瓦斯炉结构,其中该 调节盖之顶面较佳系由外向内径向倾斜形成一环 斜面。 7.依申请专利范围第6项所述之瓦斯炉结构,其中该 环斜面上设有放射状排列之数个斜凹槽。 8.依申请专利范围第7项所述之瓦斯炉结构,其中该 轴向喷嘴及该斜向喷嘴系形成于该斜凹槽之间。 9.依申请专利范围第7项所述之瓦斯炉结构,其中该 斜凹槽系开设形成一内喷嘴,且该内喷嘴系相对该 轴向喷嘴之轴形成一夹角。 10.依申请专利范围第9项所述之瓦斯炉结构,其中 该轴向喷嘴、斜向喷嘴及该内喷嘴系分别自该调 节盖之中心位置沿径向且向外排列形成数个轴向 喷嘴列、数个斜向喷嘴列及数个内喷嘴列,且该轴 向喷嘴列、斜向喷嘴列及内喷嘴列系分别依序循 环排列于该调节盖上。 11.依申请专利范围第1项所述之瓦斯炉结构,其中 另设有一引导座,其系上而下扩径形成一中空锥柱 体,并于锥面上系设有数个气孔。 12.依申请专利范围第11项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座另倾斜穿设形成数个气孔。 13.依申请专利范围第11项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座系设有数个凹部,其系形成于该锥体之内 环周面之底端唇缘处。 14.依申请专利范围第11项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座系设有一固定凸缘,其系径向弯则延伸形 成于该引导座之下方。 15.依申请专利范围第1项所述之瓦斯炉结构,其中 另设一外环座,其系为一中空倒锥体,且其具有一 上开口及一下开口。 16.依申请专利范围第15项所述之瓦斯炉结构,其中 该外环座系设有数个支撑肋,该支撑肋系等间距设 于该外环座之上开口之唇缘处。 17.依申请专利范围第15项所述之瓦斯炉结构,其中 该外环座之下开口系抵接于该底座上。 18.依申请专利范围第15项所述之瓦斯炉结构,其中 该外环座系设有至少一连接口,该连接口系开设于 该外环座之下端唇缘处,以供该进气管可穿设至该 外环座之内部。 19.依申请专利范围第15项所述之瓦斯炉结构,其中 该外环座之内环周面系径向向内延伸一抵撑件。 20.依申请专利范围第11项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座及该进气单元之间形成一进气空间。 21.一种瓦斯炉结构,其包含: 一进气单元,其系设有一环开口及一槽道,该环开 口系形成于该槽道上方,且该进气单元连通一进气 管,以供导入一瓦斯气体;及 一调节盖,其系对应盖设于该进气单元之环开口上 方,其上系开设数个斜凹槽,且该斜凹槽另设有数 个开口,其向下延伸贯穿该调节盖,而形成该内喷 嘴。 22.依申请专利范围第21项所述之瓦斯炉结构,其中 该调节盖另设有数个轴向喷嘴,该内喷嘴相对于该 轴向喷嘴形成一夹角。 23.依申请专利范围第21项所述之瓦斯炉结构,其中 该调节盖之顶面较佳系由外向内径向倾斜形成一 环斜面。 24.依申请专利范围第21项所述之瓦斯炉结构,其中 该斜凹槽系呈放射状排列于该调节盖。 25.依申请专利范围第22项所述之瓦斯炉结构,其中 该调节盖上另设有数个斜向喷嘴,该斜向喷嘴系与 该轴向喷嘴形成一夹角。 26.依申请专利范围第25项所述之瓦斯炉结构,其中 该轴向喷嘴、斜向喷嘴及该内喷嘴系分别自该调 节盖之中心位置沿径向且向外排列形成数个轴向 喷嘴列、数个斜向喷嘴列及数个内喷嘴列,且该轴 向喷嘴列、斜向喷嘴列及内喷嘴列系分别依序循 环排列于该调节盖上。 27.一种瓦斯炉结构,其包含: 一进气单元,其系设有一环开口及一槽道,该环开 口系形成于该槽道上方,且该进气单元连通一进气 管,以供导入一瓦斯气体;及 一调节盖,其系对应盖设于该进气单元之环开口上 方,且该调节盖系开设数个喷嘴,该喷嘴系导引该 瓦斯气体自该调节盖喷出; 一引导座,其系上、下个别形成一开口,该引导座 系设置于该调节盖之上。 28.依申请专利范围第27项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座另倾斜穿设形成数个气孔。 29.依申请专利范围第27项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座系设有数个凹部,其系形成于该锥体之内 环周面之底端唇缘处。 30.依申请专利范围第27项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座系设有一固定凸缘,其系径向弯则延伸形 成于该引导座之下方。 31.依申请专利范围第27项所述之瓦斯炉结构,其中 该调节盖之喷嘴系为一轴向喷嘴,其系导引该瓦斯 气体轴向喷出。 32.依申请专利范围第27项所述之瓦斯炉结构,其中 该引导座系为一中空锥柱体。 图式简单说明: 第1图:本创作第一实施例之瓦斯炉结构之分解立 体图。 第2图:本创作第一实施例之调节盖之局部剖视图 。 第3图:本创作沿第2图之3-3线之剖视图。 第4图:本创作第一实施例之瓦斯炉结构与平底锅 之使用示意图。 第5图:本创作第二实施例之瓦斯炉结构与具有弧 形底部之锅具之使用示意图。 |
