主权项 |
1.一种热处理装置,具备有: 热风供给机构,系用以供给热风者;及 加热室,系用以被导入于该热风供给机构产生的热 风,且藉着该热风加热被加热物者;其特征在于: 于伴随着被加热物的加热而产生的生成气体所流 动的区域中,配置有用以将前述生成气体氧化分解 的生成气体分解机构。 2.一种热处理装置,具备有: 热风供给机构,系用以供给热风者;及 加热室,系用以被导入于该热风供给机构产生的热 风,且藉着该热风加热被加热物者;其特征在于: 于加热室的内部具有用以配置被加热物之被加热 物配置区域,又,位于热风流动方向的该被加热物 配置区域的下游侧、即伴随着被加热物的加热而 产生的生成气体所流动的区域中,被配置有用以将 前述生成气体氧化分解的生成气体分解机构。 3.如请求项1或2之热处理装置,其中加热室藉着与 热风供给机构相通的上游壁、与该上游壁相对的 下游壁及与上游壁及下游壁相交叉的方向上延伸 的分隔壁包围,且下游壁的一部份或全部以生成气 体分解机构构成。 4.如请求项1或2之热处理装置,其中生成气体分解 机构系于触媒基体担载有用以促进生成气体的氧 化分解的触媒者。 5.如请求项1或2之热处理装置,其中生成气体分解 机构系于触媒基体担载有包含贵金属或贵金属合 金之触媒者。 6.如请求项1或2之热处理装置,其中生成气体分解 机构系于触媒基体担载有用以促进生成气体的氧 化分解的触媒者,且触媒基体系经形成多数的生成 气体流路的蜂窝状物。 7.如请求项1或2之热处理装置,其中生成气体分解 机构系于触媒基体担载有用以促进生成气体的氧 化分解的触媒者,且触媒基体系形成多数的生成气 体流路者,其厚度于30 mm以上、80 mm以下之范围内 。 8.如请求项1或2之热处理装置,其中设置有用以将 于生成气体分解机构产生的分解气体送回至热风 供给机构之循环流路。 9.如请求项1或2之热处理装置,其中生成气体分解 机构被设置于生成气体的流动方向上的有可能流 入外气部位的上游侧。 10.如请求项1或2之热处理装置,其中热风供给机构 可将包含于生成气体分解机构产生的分解气体及 由外部导入的空气之混合气体加热、供给至加热 室。 11.如请求项1或2之热处理装置,其中被加热物系于 平板状的基板表面经涂布预定液体者。 图式简单说明: 图1系显示本发明之一实施形态之热处理装置之正 视图。 图2系显示图1所示之热处理装置的内部构造的一 部份之解剖立体图。 图3系显示图1所示之热处理装置的内部构造之概 略之平面图。 图4(a)系概念地显示图1所示之热处理装置之热风 供给机构与热处理室的位置关系之立体图,图4(b) 系图4(a)所示之触媒壁的A部放大图,图4(c)系图4(b) 所示之触媒壁的重要部份之放大立体图。 图5系模式地显示图1所示之热处理装置中空气及 混合气体的流动之概念图。 图6系显示图1所示之热处理装置之变形例之概念 图。 |