发明名称 用于调校喷墨列印头支撑件之方法与装置
摘要 在本发明的部分实施例中,提供一种喷墨列印的方法。该方法包括提供列印头组,每组沿不同轴线放置。该方法也包括相对于基片上不同的显示物体调整每条轴线。本发明也提供许多其他态样。
申请公布号 TWI275490 申请公布日期 2007.03.11
申请号 TW094138878 申请日期 2005.11.04
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 栗田真一;上泉元
分类号 B41J2/145(2006.01) 主分类号 B41J2/145(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 1.一种方法,包括: 提供多组列印头,每组沿不同轴线放置;及 相对于一基片上不同的显示物体调整每条轴线。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,更包括: 在相对列印头组之一列印方向上移动基片;及 当基片移动时,经列印头组在显示物体上沉积材料 。 3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中调整每条 轴线包括转动每条轴线以与不同的显示物体对齐 。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,更包括: 单独移动列印头以与显示物体中的一个或多个像 素井对齐。 5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中调整每条 轴线包括每条轴线同时对不同倾斜的显示物体进 行列印。 6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中相对于不 同的显示物体调整每条轴线包括确定基片上显示 物体的倾斜程度。 7.如申请专利范围第1项所述之方法,更包括: 检测基片上显示物体倾斜的程度;及 基于检测到的倾斜程度指示显示物体的方向。 8.如申请专利范围第7项所述之方法,其中检测基片 上显示物体倾斜的程度包括捕捉基片上显示物体 的图像。 9.一种装置,至少包括: 多组列印头; 多个列印头支架,适于支持列印头组;及 一控制机构,可调整列印头支架与基片上不同的显 示物体对齐。 10.如申请专利范围第9项所述之装置,其中控制机 构可调整列印头支架以与基片上的显示物体单独 地对齐。 11.如申请专利范围第9项所述之装置,更包括: 多个驱动器,适于调整列印头支架以与基片上的显 示物体对齐。 12.如申请专利范围第9项所述之装置,其中列印头 可单独移动以与显示物体中的一个或多个像素井 对齐。 13.如申请专利范围第9项所述之装置,更包括: 一感测器,用以检测基片上显示物体的倾斜程度。 14.一种系统,其至少包括: 一喷墨印表机,其包括; 组成多组的多个列印头; 一平台,可在列印过程相对列印头移动基片上的显 示物体; 多个列印头支架,可将列印头组支撑于平台上;和 一框架,与多个列印头支架相连且适于在列印过程 中稳定列印头支架。 15.如申请专利范围第14项所述之系统,其中框架包 括减振材料。 16.如申请专利范围第14项所述之系统,更包括: 数个轴承,适于可调整地将列印头支架连接于框架 。 17.如申请专利范围第14项所述之系统,更包括: 一控制机构,可调整列印头支架以与基片上的显示 物体对齐。 18.如申请专利范围第17项所述之系统,其中控制机 构适于调整列印头支架以与基片上的不同显示物 体单独地对齐。 19.如申请专利范围第14项所述之系统,更包括: 多个驱动器,适于调整列印头支架以与基片上的显 示物体对齐。 20.如申请专利范围第14项所述之系统,其中列印头 可单独移动以与显示物体中的一个或多个像素井 对齐。 21.如申请专利范围第14项所述之系统,更包括: 一感测器,用于检测基片上显示物体的倾斜程度。 图式简单说明: 图1A为根据本发明的一些实施例的喷墨列印系统 的顶视图。 图1B为根据本发明的一些实施例的喷墨列印系统 的侧视图。 图2为根据本发明的一些实施例的喷墨列印装置的 顶视图。 图3为一流程图,该流程图图解了根据本发明的一 些实施例的喷墨列印方法的例子。 图4为根据本发明的一些实施例的喷墨列印系统的 局部透视图。
地址 美国
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