发明名称 声波型接触检测装置
摘要 本发明之声波型接触检测装置使杂波有效地散乱,同时可使生产性提升,制造成本减低。杂波散乱手段50之斜线40、42系于基板2之上缘24附近,以互相逆向之角度而形成。该角度系于基板2之部附近几乎垂直形成,随着往基板2之端部而逐渐变化为小角度。又,斜线46、48亦同样具有相反之斜率而形成,并且该角度逐渐变化。到达此区域之杂波系藉由此等斜线40、42、46、48而被乱反射并衰减,以使不到达接收侧之转换器12、14。又,矩形之杂波散乱手段34、36、38系亦为了使传播于基板2之表面之杂波乱反射并消去,藉由45°以外之角度之平行之复数突条所构成。
申请公布号 TWI275775 申请公布日期 2007.03.11
申请号 TW092131839 申请日期 2003.11.13
申请人 接触板系统股份有限公司 发明人 田中芳和
分类号 G01B17/00(2006.01);G06F3/03(2006.01) 主分类号 G01B17/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈传岳 台北市大安区仁爱路3段136号15楼
主权项 1.一种声波型接触检测装置,包含:基板,其系具有 声波所传播之表面;声波产生手段;反射阵列,其系 使产生之前述声波沿着前述基板表面传播;检测手 段,其系检测藉由在前述表面之物体之接触所造成 之前述声波之变化;及作为控制手段之控制器;其 特征在于: 前述声波产生之际,使于前述表面附带产生之杂波 散乱之杂波散乱手段系形成于前述基板。 2.如申请专利范围第1项之声波型接触检测装置,其 中前述杂波散乱手段系由与前述基板相同之材料 所形成之反射阵列组成。 3.如申请专利范围第1或2项之声波型接触检测装置 ,其中前述声波产生手段及前述杂波散乱手段系藉 由印刷所形成。 4.如申请专利范围第1项之声波型接触检测装置,其 中前述声波产生手段及前述杂波散乱手段系藉由 蚀刻所形成。 图式简单说明: 第一图为本发明之声波型接触检测装置所使用之 触控式面板之正面图; 第二图系表示接着于基板之FPC之正面图; 第三图系表示FPC全体之概略平面图; 第四图为放大第三图之B所示之部分之FPC之部分放 大图; 第五图为对应第一图所示之反射阵列之反射阵列 正面图; 第六图系同时表示对应第一图之扩散光栅及模式 转换要素之正面图; 第七图系同时表示扩散光栅及反射阵列之部分放 大图; 第八图系同时表示扩散光栅及反射阵列之部分放 大图; 第九图系表示扩散光栅之变形例之放大图; 第十图系表示扩散光栅与反射阵列之相对位置关 系之正面图; 第十一图系表示由箭头A方向所见之第一图之基板 之部分概略放大图。
地址 日本