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发明名称 STRAINED SI BASED LAYER MADE BY UHV-CVD, AND DEVICES THEREIN
摘要
申请公布号 KR100690421(B1) 申请公布日期 2007.03.09
申请号 KR20047001367 申请日期 2004.01.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L21/331;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/336;H01L21/337;H01L21/762;H01L21/8238;H01L27/08;H01L27/092;H01L27/12;H01L29/161;H01L29/165;H01L29/73;H01L29/78;H01L29/786 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
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