Verfahren zum Reduzieren der Kontamination durch Entfernung eines Zwischenschichtdielektrikums von dem Substratrand

摘要

Durch Ausführen mindestens eines zusätzlichen nasschemischen Ätzprozesses in dem Randgebiet und insbesondere an der Abschrägung eines Substrats während der Herstellung einer Metallisierungsschicht kann das dielektrische Material und insbesondere das dielektrische Material mit kleinem epsilon in zuverlässiger Weise von der Abschrägung vor dem Ausbilden von Barrieren- und Metallschichten entfernt werden. Des Weiteren kann ein zusätzlicher nasschemischer Ätzprozess nach dem Abscheiden des Metalls ausgeführt werden, so dass ungewünschtes Material und Barrierenmaterial von dem Randgebiet und der Abschrägung entfernt wird. Folglich kann die Problematik von Defekten und die Kontamination von Substraten und Prozessanlagen deutlich reduziert werden.