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发明名称 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SiON/SiO2 DIELEKTRISCHEN ZWISCHENSCHICHT MIT EINER NACHBEHANDLUNG DER CVD SILIZIUM OXYNITRIDSCHICHT
摘要
申请公布号 DE69931656(T2) 申请公布日期 2007.03.08
申请号 DE19996031656T 申请日期 1999.06.16
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES INC. 发明人 SUN, SEY-PING;GARDNER, I.;NGO, VAN
分类号 C23C16/30;H01L21/314;C23C16/56;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/768;H01L23/522;H01L29/78 主分类号 C23C16/30
代理机构 代理人
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