发明名称 | 形成有均匀特征尺寸的有源图案的多栅极晶体管及其制造方法 | ||
摘要 | 为制造多栅极晶体管,形成了具有均匀的特征尺寸的至少一个有源图案。从所述有源图案的暴露部分生长外延结构。从所述有源图案的至少两个表面形成所述晶体管的沟道区。利用所述外延结构形成源极和漏极。 | ||
申请公布号 | CN1926672A | 申请公布日期 | 2007.03.07 |
申请号 | CN200580006333.4 | 申请日期 | 2005.02.03 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 陈裕承 |
分类号 | H01L21/336(2006.01) | 主分类号 | H01L21/336(2006.01) |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
主权项 | 1.一种多栅极晶体管的制造方法,包括:形成至少一个有源图案;从所述有源图案的暴露部分生长至少一个外延结构;以及从所述有源图案的至少两个表面形成沟道区。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |