发明名称 形成有均匀特征尺寸的有源图案的多栅极晶体管及其制造方法
摘要 为制造多栅极晶体管,形成了具有均匀的特征尺寸的至少一个有源图案。从所述有源图案的暴露部分生长外延结构。从所述有源图案的至少两个表面形成所述晶体管的沟道区。利用所述外延结构形成源极和漏极。
申请公布号 CN1926672A 申请公布日期 2007.03.07
申请号 CN200580006333.4 申请日期 2005.02.03
申请人 三星电子株式会社 发明人 陈裕承
分类号 H01L21/336(2006.01) 主分类号 H01L21/336(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波
主权项 1.一种多栅极晶体管的制造方法,包括:形成至少一个有源图案;从所述有源图案的暴露部分生长至少一个外延结构;以及从所述有源图案的至少两个表面形成沟道区。
地址 韩国京畿道