| 发明名称 | 涂敷·显影装置和涂敷·显影方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种涂敷·显影装置和涂敷·显影方法。在对应用液浸曝光的基板进行处理时，抑制从抗蚀剂溶出的成分的影响，从而进行高精度且面内均匀性高的涂敷、显影。构成为由涂敷单元在基板的表面涂敷抗蚀剂，然后利用第1清洗机构例如清洗喷嘴来清洗基板，之后再进行曝光。在该情况下，即使当曝光时在基板的表面形成使光透过的液层，由于从抗蚀剂溶出的成分较少，所以也可以进行线宽精度高的曝光处理，作为结果，可以在显影后的基板上形成精度高且面内均匀性高的抗蚀剂图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1926662A | 申请公布日期 | 2007.03.07 |
| 申请号 | CN200480042660.0 | 申请日期 | 2004.12.16 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 山本太郎;京田秀治 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/38(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
| 主权项 | 1.一种涂敷、显影装置，其特征在于，具备：涂敷单元，在基板的表面上涂敷抗蚀剂；显影单元，对在基板的表面形成使光透过的液层的状态下曝光后的基板进行显影处理；和第1清洗机构，用于在曝光前利用清洗液对涂敷有抗蚀剂的基板的表面进行清洗。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||