| 发明名称 | 真空腔室和真空处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种采用分割结构同时能够确保作为真空容器的强度的真空腔室和一种具有该真空腔室的真空处理装置。作为真空腔室的搬送腔室(20)包括形成为长方形的主框体(201)、与该主框体(201)的长边的相对的侧部接合的一对增强框体(202a、202b)、装卸自由地与主框体(201)的上面接合的顶板(203)、和未图示的搬送机构，主框体(201)与增强框体(202a、202b)成为一体，形成搬送基板(S)的搬送空间。 | ||
| 申请公布号 | CN1925111A | 申请公布日期 | 2007.03.07 |
| 申请号 | CN200610128922.6 | 申请日期 | 2006.09.04 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 冈部星儿 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种真空腔室，其特征在于：包括：被形成为多角形状，具有构成底部的底板，与该底板相对的上面开口的主框体；分别与所述主框体的相对的侧部接合的至少一对增强框体；和装卸自由地与所述主框体的上部接合的顶板，所述主框体与所述增强框体接合并成为一体，形成收容被处理基板的空间。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||