发明名称 激光诱导热成像设备
摘要 本发明公开了一种激光诱导热成像(LITI)设备和使用该设备制造电子装置的方法。该LITI设备包括室腔、基底支撑件、接触框和激光源或振荡器。所述LITI设备将可转移层从膜供体装置转移到半成品电子装置的表面上。所述LITI设备利用磁力提供在可转移层和半成品电子装置的表面之间的紧密接触。通过在LITI设备的隔开的两个组件中形成的磁性材料产生磁力,可转移层和半成品电子装置的所述表面介于所述两个组件之间。磁体或磁性材料形成在LITI系统的两个以下组件中:1)半成品装置和膜供体装置;2)半成品装置和接触框;3)基底支撑件和膜供体装置;或者4)基底支撑件和接触框。
申请公布号 CN1923529A 申请公布日期 2007.03.07
申请号 CN200610121986.3 申请日期 2006.08.30
申请人 三星SDI株式会社 发明人 鲁硕原;金茂显;姜泰旻;郭鲁敏;金镇洙;成镇旭;宋明原;金善浩
分类号 B41M5/24(2006.01);B44B7/00(2006.01);H01L21/00(2006.01);H01L21/683(2006.01);H01L51/56(2006.01) 主分类号 B41M5/24(2006.01)
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人 韩明星;刘奕晴
主权项 1、一种用于激光诱导热成像的设备,所述设备包括:激光源;基底支撑件,包括面对激光源的表面,并且所述基底支撑件被构造为在所述表面上容纳将用于激光诱导热成像的装置,所述基底支撑件包括磁体。
地址 韩国京畿道水原市