发明名称 |
磁场均匀化方法和装置以及磁场发生装置 |
摘要 |
为了有效地将磁场均匀化,当要在一对相对的磁极的表面之间的空间中使产生的磁场强度分布均匀化时,相对于为使磁场强度分布均匀化而布置磁元件的平面确定使磁场强度分布均匀化的连续磁化强度分布(301-307);并且根据所述磁化强度分布布置磁元件(309)。以正交函数的多项式的形式来确定所述磁化强度分布。用过最佳化方法确定所述多项式。所述最佳化方法为最小二乘方法。 |
申请公布号 |
CN1303625C |
申请公布日期 |
2007.03.07 |
申请号 |
CN03157735.0 |
申请日期 |
2003.08.26 |
申请人 |
GE医疗系统环球技术有限公司 |
发明人 |
后藤隆男 |
分类号 |
H01F41/00(2006.01);G01R33/3873(2006.01);G01V3/00(2006.01) |
主分类号 |
H01F41/00(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
杨凯;梁永 |
主权项 |
1.一种用于使在一对相对的磁极的表面之间的空间中产生的磁场强度分布均匀化的磁场均匀化方法,所述方法包括以下步骤:相对于多个平面和多个板确定一个连续的磁化强度分布,所述多个表面含有所述磁极的表面中的一个表面,所述多个板位于所述磁极表面,在所述磁极表面上将布置包括垫补磁体的磁元件以使所述磁场的强度分布均匀化;以及根据所述磁化强度分布而将所述磁元件布置在所述平面上,其中所述确定磁化强度分布的步骤包括在将所述磁元件放在所述平面上之前优化所述磁化强度分布。 |
地址 |
美国威斯康星州 |