| 发明名称 | 用于超薄膜分离和纳米电子器件制造的玻璃改性应力波 | ||
| 摘要 | 用于在基体和涂层之间产生张力的装置，其中基体在第一轴上具有由第一侧面和第二侧面限定的厚度，涂层涂覆到基体的第一侧面，使得涂层和基体沿第一轴轴向分隔并且相互紧密对向接触，从而形成涂层/基体界面。该装置具有布置在基体第二侧面上并且沿第一轴轴向分隔的玻璃元件。配置该玻璃元件以将应力波传播至涂层/基体界面，从而在基体和涂层之间产生张力。 | ||
| 申请公布号 | CN1926420A | 申请公布日期 | 2007.03.07 |
| 申请号 | CN200580006458.7 | 申请日期 | 2005.03.07 |
| 申请人 | 加利福尼亚大学董事会 | 发明人 | 维贾伊·古普塔;瓦西里·A·基列耶夫 |
| 分类号 | G01L1/24(2006.01) | 主分类号 | G01L1/24(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 顾晋伟;刘继富 |
| 主权项 | 1.一种用于在基体和涂层之间产生张应力的装置，包含：具有一定厚度的基体，所述厚度在第一轴上由第一侧面和第二侧面所限定；涂层，所述涂层涂覆到基体的第一侧面，使得涂层和基体沿第一轴轴向分隔并且相互紧密对向接触，从而形成涂层/基体界面；和玻璃元件，布置在基体第二侧面上并且沿第一轴轴向分隔；其中配置该玻璃元件以使应力波传播至涂层/基体界面，从而在基体和涂层之间产生张应力。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||