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发明名称 Lithographic projection apparatus
摘要
申请公布号 EP1186957(B1) 申请公布日期 2007.03.07
申请号 EP20010307428 申请日期 2001.08.31
申请人 ASML NETHERLANDS B.V.;KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. 发明人 BANINE, VADIM YEVGENYEVICH;JONKERS, JEROEN
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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