Plasma processing system and processing method thereby,申请号KR20050068524-传众专利搜索

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发明名称	Plasma processing system and processing method thereby
摘要
申请公布号	KR100688951(B1)	申请公布日期	2007.03.02
申请号	KR20050068524	申请日期	2005.07.27
申请人		发明人
分类号	H01L21/02	主分类号	H01L21/02
代理机构		代理人
主权项
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